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    理學院-邁納德聯合實驗室

    邁納德-東華大學理學院聯合實驗室簡介

    原子層沉積(Atomic Layer Deposition: ALD)是目前國外近幾年發展起來的一種廣泛用于超薄絕緣層沉積和納米鍍層的一種新型沉積技術,在每個沉積過程中,可以控制在一個分子層的沉積。等離子體在ALD中的應用可以提高分子層沉積的效率,是目前ALD沉積技術中研究熱點之一。邁納德-東華大學理學院聯合實驗室主要依托東華大學理學院在等離子體和無錫邁納德微納技術有限公司在原子層沉積設備上各自技術優勢基礎上,開展脈沖等離子體增強型原子層沉積以及相關領域技術的開發。

    無錫邁納德微納技術有限公司是集研發、生產、銷售為一體的新型高科技微納技術企業。公司成立于2009年7月,主要提供納米涂層產品(如AL2O3、TiO2等),鍍膜設備的制造及相關定制產品,應用于微納米技術、半導體、太陽能電池、有機發光器件、微納傳感器等領域。2009年獲得無錫市政府“530”項目和空港產業園的合力資助,立志于中國微納技術的產業化。由一支優秀的創業團隊組成,包括留學德國、英國、香港的歸國博士及擁有豐富管理、銷售經驗的專業人士。技術支持包括來自德國Max-Planck固態研究所,德國Leibniz固態與材料研究所,國內知名大學材料科學系、電子系及物理系的相關教授。

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